خبر جدید | نگاهی به مشخصات تراشه 5 نانومتری Kirin 9006C – عبور هواوی از سد تحریمu200cهای ایالات متحده؟ | مایفون مگ

واحد خبر مایفون مگ : بر اساس گزارش منابع خبری، شرکت تراشهu200cساز چینی SMIC احتمالا موفق شده از سد بلند تولید تراشهu200cهای 5 نانومتری بگذرد. تحلیلu200cگران صنعت با توجه به عرضه لپu200cتاپ جدید هواوی با تراشه پیشرفته 5 نانومتری، به این نتیجه رسیدهu200cاند که این کمپانی توانسته با وجود تحریمu200cهای ایالات متحده این گام دشوار رو به جلو را بردارد. این در حالی است که هواوی اسمارتu200cفونu200cهای Mate 60 Pro و +Mate 60 Pro را به ترتیب در آگوست و سپتامبر امسال مجهز به تراشه ناشناخته Kirin 9000s با لیتوگرافی معادل 7 نانومتری معرفی کرد؛ محصولاتی که بنا بر گزارش موسسه کانترپوینت در سهu200cماهه سوم 2023، عرضه موفقی را در چین به ثبت رساندهu200cاند.

SMIC در سالی که گذشت پس از آغاز تولید انبوه پردازنده HiSilicon Kirin 9000S با استفاده از نسل دوم فناوری 7 نانومتری، دنیا را حیرتu200cزده کرد و حال به نظر می رسد بار دیگر برای شگفتی تازهu200cای آماده میu200cشود که آن هم ساخت محصولی با فرایند 5 نانومتری است که در حال حاضر یا برای تولید در حجم بالا مورد استفاده قرار میu200cگیرد و یا در مراحل پایانی توسعه است. در واقع، هواوی در معرفی لپu200cتاپ تازه خود با نام Qingyun L540 به پردازندهu200cای اشاره کرده که با فرآیند 5 نانومتری ساخته شده است و هشت هسته پردازشی (ظاهرا شامل 4 هسته A77 و 4 هسته A55) مبتنی بر هستهu200cهای ARM را در کنار گرافیک Mali-G78 در بر میu200cگیرد.

به گفته هواوی، حداکثر سرعت کلاک هستهu200cهای این تراشه 3.13 گیگاهرتز است و عملکرد بهینه را در کنار مصرف انرژی کمتر و پردازش سریعu200cتر ارائه میu200cدهد. این بیشینه فرکانس تنها اندکی از سرعت کلاک آن دسته از چیپu200cستu200cهای TSMC و اپل که بر مبنای فناوری موسوم به N5 ساختهu200c شدهu200cاند، پایینu200cتر است. برای مقایسه بهتر است بدانید حداکثر فرکانس هستهu200cهای با عملکرد بالای M1 اپل به 3.20 گیگاهرتز میu200cرسد.

در عین حال، حداکثر سرعت کلاک Kirin 9006C به تراشه دیگر هواوی با نام Kirin 9000 شباهت دارد که توسط TSMC برای شرکت چینی تولید شده است. در واقع، زمانی که TSMC در اوایل فصل دوم سال 2020 میلادی ساخت انبوه چیپu200cها روی فناوری 5 نانومتری را آغاز کرد، هواوی هنوز در فهرست سیاه وزارت بازرگانی ایالات متحده نگرفته بود و تراشهu200cساز تایوانی میu200cتوانست محصولات تازه 5 نانومتری را در اختیار سازنده چینی قرار دهد. چنان که هواوی در اواخر آگوست 2020 به طور رسمی استفاده از تراشه Kirin 9000 مبتنی بر فرایند 5 نانومتری را تایید و از ساخت این چیپ در تایوان خبر داده بود.

حال شباهت زیاد میان Kirin 9000 و Kirin 9006C برخی را به این نتیجه رسانده که شاید محصول ادعایی جدید همان تراشهu200cهای تایوانی قبلی باشد که در انبار هواوی وجود داشته است. این برداشت هرچند ممکن است درست باشد، اما به هر حال نگهداری تعداد زیادی پردازنده پیشرفته و گرانu200cقیمت برای مدت سه سال چندان منطقی به نظر نمیu200cرسد. به ویژه آن که Kirin 9000 از یک مودم داخلی 5G بهره میu200cبرد که احتمالاً Kirin 9006C فاقد آن است. از این رو استفاده از چنین تراشه پیشرفتهu200cای بیشتر مناسب یک گوشی هوشمند رده بالاست تا آن که در یک لپu200cتاپ ارزانu200cقیمت به کار گرفته شود. به این ترتیب در مجموع میu200cتوان محصول جدید را با احتمال نسبتا زیاد ساخته شرکت تراشهu200cساز چینی یعنی SMIC دانست.

البته توانایی SMIC برای تولید محصولی با فرایند 5 نانومتری چندان هم تعجبu200cآور نیست، زیرا پیش از این نیز اخباری از تلاش این شرکت برای عبور از موانع حاصل از تحریم آمریکا به گوش میu200cرسید. چنان که یکی از متخصصان صنعت ضمن اشاره به این تلاشu200cها گفته بود: «SMIC در حال آماده سازی فرآیند 5 نانومتری از طریق [تجهیزات] DUV است و انتظار می رود استفاده از ماسک نوری (Photomask) بیش از پیش افزایش یابد.» این گفتهu200cها درباره استفاده SMIC از لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV کوتاهu200cشده deep ultraviolet) پیشتر نیز بارها در فضای صنعت نیمهu200cرسانا شنیده شده است، اما نمیu200cتوان درستی آن را به طور کامل تایید کرد.

از سوی دیگر SMIC ابزارهای ساخت تراشهu200cای را در اختیار دارد که استفاده از آنu200cها برای تولید پردازنده 5 نانومتری امکانu200cپذیر است. دستگاه لیتوگرافی Twinscan NXT:2000i محصول شرکت هلندی ASML دارای وضوح کمu200cتر یا مساوی 38 نانومتر بوده و برای تولید انبوه محصولات کلاس 7 نانومتری با استفاده از تکنیکu200cهای لیتوگرافی موسوم به الگودهی دوگانه یا double-patterning کاملا مناسب است. اما ساخت محصولات 5 نانومتری نیازمند وضوح ریزتر و دقیقu200cتری است و تولیدکنندگان تراشه میu200cتوانند برای این هدف از الگودهی سه یا حتی چهارگانه استفاده کنند. این تکنیک لیتوگرافی شامل تقسیم یک الگوی پیچیده به چندین الگوی سادهu200cتر است که در مرحله بعد، برای دستیابی به دقت و جزئیات بالاتر بهu200cطور متوالی چاپ میu200cشوند. در واقع استفاده از چند الگوی همu200cزمان فرآیندی پیچیده است که بر بازده و تعداد تراشهu200cهای قابل استفاده در هر ویفر تأثیر میu200cگذارد. بنابراین معمولاً به دلیل تأثیر آن بر هزینهu200cهای تراشه، به صورت محدودتری مورد استفاده قرار میu200cگیرد.

گروهی از کارشناسان احتمال میu200cدهند که هواوی برای تولید گوشیu200cهای پرچمu200cدار سری P70 خود در سال 2024 از تراشه جدید استفاده کند. انتظار میu200cرود این خانواده همچون نسلu200cهای پیش سه اسمارتu200cفون را شامل شود و مدل موسوم به P70 Art پیشرفتهu200cترین نمونه در این میان باشد که به لنز ترکیبی 16GP مجهز خواهد بود.

با این حال، در مجموع نمیu200cتوان با یقین از توفیق SMIC در تولید انبوه تراشه با فناوری 5 نانومتری سخن گفت. به علاوه، با توجه به تنش میان ایالات متحده و چین و محدود کردن تواناییu200cهای هواوی و SMIC بعید است این شرکتu200cها تواناییu200cهای تکنولوژیکی واقعی خود را به طور دقیق افشا کنند. به این ترتیب حتی اگر اخبار و شنیدهu200cها درباره تولید تراشهu200cهای 5 نانومتری درست باشد، هواوی و SMIC تمایل ندارند شرکا و تامینu200cکنندگان احتمالی این فرایند و یا نحوه دستیابی آنu200cها به تجهیزات و تراشهu200cهای واقعی توسط ایالات متحده و متحدانش کشف شوند.